Paten Reguler
S00201808353
IDS000003341
-
-
Reguler
Tidak ada gambar
Invensi ini merupakan proses pembuatan degasser (penghilang gas) dengan unsur utama natrium fluorida untuk menghilangkan gas hidrogen (H2) pada aluminium atau paduannya. Gas hidrogen yang terbentuk selama proses pengecoran akan menimbulkan pori ketika mengalami pendinginan cepat. Pori ini akan menurunkan kualitas produk aluminium atau paduannya. Degasser berbahan utama fluorida ini akan menghasilkan gas nitrogen (N2) yang akan mengikat gas hidrogen sehingga dapat menghilangkan pori, proses pembuatan degasser dengan unsur utama natrium fluorida dengan tahap-tahap: menyiapkan garam NaNO3 18%, natrium fluorida 30%-40%, serta NaCl 18,5%, NH4Cl (KCl) 0-3%, Na2SO4 25-30%, pewarna 1-2%, selanjutnya diayak bahan, mencampur bahan-bahan, mencetak bahan dari powder menjadi tablet, memanaskan tablet degasser yang sudah dicetak, mengeringkan tablet degasser; menyelesaikan bentuk akhir tablet degasser.
Dr. Ir. Donanta Dhaneswara, M.Si
Jaka Fajar Fatriansyah, M.Sc., Ph.D
Mohamad Churiyanto, S.T.
Nofrijon Sofyan, Ph.D
-
Fakultas Teknik
Disclaimer: Informasi yang ditampilkan dalam Pangkalan Data Kekayaan Intelektual IPIS disediakan hanya untuk tujuan informasi. Sistem ini tidak menjamin keakuratan, kelengkapan, atau ketepatan waktu data yang tersedia, karena kemungkinan adanya pembaruan, koreksi, atau perubahan yang belum tercermin. Untuk keperluan pencarian atau analisis kekayaan intelektual yang bersifat menyeluruh, disarankan untuk berkonsultasi dengan Konsultan Kekayaan Intelektual resmi. Segala keputusan tidak seharusnya diambil semata-mata berdasarkan hasil pencarian dari sistem ini.