logo

IPIS

Intelectual Property Information System

developed by DIRBT UI

Metode Pembentukan Lapisan Terintegrasi Melalui Proses Anodisasi dan Deposit Nano Cerium Pada Komposit Aluminium Untuk Pengangkatan Ketahanan Korosi

Paten Reguler

Informasi Paten

P00201507511

ID P000046796

-

-

Reguler

Belum Diklasifikasi

Tidak ada gambar

Abstrak

Invensi ini berkaitan dengan proses pembentukan lapisan terintegrasi. Lebih spesifik, invensi ini merupakan proses pembentukan lapisan melalui pelapisan nano deposit pada komposit aluminium berpenguat SiC hasil anodisasi untuk aplikasi paduan ringan tahan korosi. Material yang digunakan dalam invensi ini adalah komposit aluminium 7075 dengan penguat SiC (Al7075/SiC). Sedangkan proses dalam invensi ini meliputi langkah-langkah sebagai berikut : a) anodisasi Al7075/SiC dalam larutan asam sulfat dengan yang bertujuan untuk menghasilkan lapisan oksida alumina dan b) kemudian dilanjutkan dengan pelapisan nano cerium dalam yang bertujuan untuk memperbaiki cacat dan rongga pada lapisan oksida alumina hasil anodisasi.

Inventor

1

Badrul Munir

2

Vika Rizkia

3

Johny Wahyuadi Soedarsono

4

Bambang Suharno

Pemohon

-

Fakultas Teknik

Ringkasan

Tahun Permohonan -
Masa Perlindungan -
Total Inventor 4

Informasi

Disclaimer: Informasi yang ditampilkan dalam Pangkalan Data Kekayaan Intelektual IPIS disediakan hanya untuk tujuan informasi. Sistem ini tidak menjamin keakuratan, kelengkapan, atau ketepatan waktu data yang tersedia, karena kemungkinan adanya pembaruan, koreksi, atau perubahan yang belum tercermin. Untuk keperluan pencarian atau analisis kekayaan intelektual yang bersifat menyeluruh, disarankan untuk berkonsultasi dengan Konsultan Kekayaan Intelektual resmi. Segala keputusan tidak seharusnya diambil semata-mata berdasarkan hasil pencarian dari sistem ini.

Kembali